干燥装置、涂敷膜形成系统以及其方法

2025-12-09 15:40:02 312次浏览

干燥装置、涂敷膜形成系统以及其方法
【专利摘要】本发明提供一种适当地控制用于使涂敷于基材上的浆状的涂敷液干燥的干燥强度的技术。干燥装置(3A)使涂敷于连续搬运的基材(51)的一侧主面(51)上的浆状的涂敷液(41)干燥。干燥装置(3A)具有：加热部(涂敷面侧加热部(35)以及背面侧加热部(37))，对涂敷液(41)进行加热处理；辐射温度计(39)，在加热部的搬运方向上的下游侧的位置，对基材(5)上的辐射率不会因加热处理变动的另一侧主面(53)上的辅射率不变部位(531)的温度进行测量；加热控制部(711)，基于辐射温度计(39)测量出的温度来控制加热部进行的加热处理的强度。
【专利说明】
干燥装置、涂敷膜形成系统以及其方法
技术领域
[0001 ]本发明涉及一种使浆状的涂敷液干燥的技术。
【背景技术】
[0002]在专利文献I中披露了，利用由福射温度计或者热成像(thermography)构成的温度测量部在多个位置测量基材上的涂敷膜的温度。另外，还披露了基于各温度测量部的测量结果，使下游侧的干燥喷嘴的干燥强度大于上游侧的干燥喷嘴的干燥强度。
[0003]另外，在专利文献2中披露了，为了提高涂敷膜对基材的粘附力，用加热单元从未涂敷有涂敷膜的基材面侧来加热基材，用冷却单元隔着基材从加热单元的相反侧来冷却涂敷膜的上表面。另外，还解析了当将涂敷膜从基材上撕下时的剥离力与基材上表面温度以及基材下表面温度的温度差的关联关系。
[0004]专利文献1: JP特开2013-108648号公报
[0005]专利文献2: JP特开2014-173803号公报
[0006]在专利文献I中使用的辐射温度计或者热成像的情况下，将涂敷膜的辐射率设定为规定的值，由此测量干燥处理中的涂敷膜的上表面温度。但是，由于干燥处理中的涂敷膜的辐射率因溶剂的蒸发等而变动，所以有时温度计的辐射率的设定值与实际的辐射率大不相同。因此，无法准确地测量涂敷膜上表面温度，可能进行了错误的温度控制。另外，在专利文献I中记载的干燥装置中，测量结果用于控制下游侧的干燥喷嘴。因此，存在上游侧的干燥喷嘴继续进行不恰当的干燥处理的危险。
[0007]另外，在专利文献2中没有明确指出以何种方式测量基材的各部位的温度。另外，在专利文献2中既没有如专利文献I那样披露，基于各部位的温度的测量结果来控制加热单元(或者冷却单元)这样的技术思想，也没有给出启示。

【发明内容】

[0008]本发明的目的在于，提供一种适当地控制用于使涂敷于基材上的浆状的涂敷液干燥的干燥强度的技术。
[0009]为了解决上述的问题，本发明的第I技术方案是一种干燥装置，使涂敷于被搬运机构连续搬运的基材的两个主面中的至少一侧主面上的浆状的涂敷液干燥，该搬运机构一边从第一辊送出所述基材，一边用第二辊卷收所述基材，该干燥装置具有:加热部，对涂敷于所述基材上的涂敷液进行加热处理，辐射温度计，在搬运方向上的所述加热部的下游侧的位置，对所述基材上的辐射率不会因所述加热处理变动的辐射率不变部位的温度进行测量，以及控制部，基于所述辐射温度计测量出的温度，控制所述加热处理的强度。
[0010]另外，第2技术方案的干燥装置，在第I技术方案中，所述辐射温度计在所述基材上的未涂敷有所述涂敷液的非涂敷部位或者形成有已干燥的所述涂敷液的涂敷膜的涂敷膜形成部位测量温度。
[0011]另外，第3技术方案的干燥装置，在第I或者第2技术方案中，该干燥装置还具有机壳部，该机壳部形成有用于使所述基材进入内部的进入口以及用于使所述基材从内部退出的退出口，所述加热部以及所述辐射温度计容置于所述机壳部内。
[0012]另外，第4技术方案的干燥装置，在第I?第3技术方案中，在所述辐射温度计测量出的所述辐射率不变部位的温度比目标温度低的情况下，所述控制部使所述加热部进行的所述加热处理的强度增强，在所述辐射率不变部位的温度比所述目标温度高的情况下，所述控制部使所述加热部进行的所述加热处理的强度减弱。
[0013]另外，第5技术方案的干燥装置，在第4技术方案中，所述加热部具有热风供给部，该热风供给部向所述基材吹送温度比所述目标温度高的热风，来加热所述涂敷液。
[0014]另外，第6技术方案的干燥装置，在第I?第5中任一技术方案中，所述加热部以及所述辐射温度计沿着所述基材的搬运路径至少排列有一组以上。
[0015]另外，第7种技术方案的干燥装置，在第I?第6中任一技术方案中，还具有支撑辊，该支撑辊配置于所述加热部的下游侧，支撑所述基材的另一侧主面，所述辐射温度计在所述加热部与所述支撑辊之间的位置，测量所述辐射率不变部位的温度。
[0016]另外，第8技术方案的干燥装置，在第I?第7技术方案中任一技术方案中，该干燥装置还具有多个排列于不同的高度的支撑辊，所述多个支撑辊以使所述基材呈向所述一侧主面侧凸出的凸状的方式支撑该所述基材。
[0017]另外，第9技术方案的干燥装置，在第I?第8技术方案中任一技术方案中，还具有通知部，在由所述辐射温度计测量出的所述辐射率不变部位的温度超过规定的基准温度的情况下，该通知部向外部发出通知。
[0018]另外，第10技术方案是一种涂敷膜形成系统，在基材上形成涂敷膜，该涂敷膜形成系统具有:搬运机构，用第二辊卷收从第一辊送出的基材，来连续搬运所述基材，涂敷部，向被所述搬运机构搬运的基材的两个主面中的至少一侧主面涂敷浆状的涂敷液，以及第I?第9技术方案中任一技术方案的干燥装置。
[0019]另外，第11技术方案是一种干燥方法，该干燥方法使涂敷于通过一边从第一辊送出基材一边用第二辊卷收而被连续搬运的所述基材的两个主面中的至少一侧主面上的浆状的涂敷液干燥，包括:加热工序，对涂敷于所述基材上的涂敷液进行加热处理，温度测量工序，用辐射温度计对在所述加热工序中已被加热的所述基材中的辐射率不会因所述加热处理变动的辐射率不变部位的温度进行测量，以及控制工序，基于所述辐射温度计测量出的温度，控制所述加热处理的强度。
[0020]另外，第12技术方案是一种涂敷膜形成方法，在基材上形成涂敷膜，包括:搬运工序，用第二辊卷收从第一辊送出的基材，来连续搬运基材，涂敷工序，在所述搬运工序中连续搬运的基材的两个主面中的至少一侧主面上涂敷浆状的涂敷液，加热工序，对涂敷于所述基材上的涂敷液进行加热处理，温度测量工序，用辐射温度计对在所述加热工序中已被加热的所述基材中的辐射率不会因所述加热处理变动的辐射率不变部位的温度进行测量，以及控制工序，基于所述辐射温度计测量出的温度，控制所述加热处理的强度。
[0021]根据第I?第10技术方案的干燥装置，用辐射温度计测量基材上的辐射率不变的部位的温度，由此能够以不接触的方式高精度地确定干燥处理中的涂敷液的温度。另外，基于测量出的温度来控制在测量温度的部位的上游侧进行的加热处理的强度，由此能够更加良好地进行干燥处理。
[0022]根据第二技术方案，非涂敷部位或者涂敷膜形成部位是辐射率不会因加热处理变动的位置。因此，用辐射温度计测量这些部位的温度，能够以不接触的方式高精度地确定作为干燥对象的涂敷液的温度。
[0023]根据第3技术方案，能够在利用机壳部阻挡外部气体的状态下进行加热。因此，能够高效率地进行干燥处理。
[0024]根据第4技术方案，能够适当地控制加热浆状的涂敷液的加热处理的强度。
[0025]根据第5技术方案，能够吹送温度比目标温度高的热风，由此涂敷液的温度快速地接近目标温度。
[0026]根据第6技术方案，基于一个以上的辐射温度计的测量结果，控制部能够控制位于一个以上的辐射温度计的上游侧的一个以上的加热部，由此在一个位置或者多个位置进行恰当的加热处理。
[0027]根据第7技术方案，能够在因支撑辊使辐射率不变部位的温度变化之前，用辐射温度计测量温度。因此，能够更加恰当地控制加热部。
[0028]根据第8技术方案，将基材弯曲成凸状来搬运，由此不改变直线距离，能够延长搬运距离。通过这种方式，能够确保更长的干燥时间。
[0029]根据第9技术方案，向外部通知涂敷液处于异常温度，能够迅速地应对异常事态。
[0030]根据第10技术方案的涂敷膜形成系统，用辐射温度计测量基材上的辐射率不变的部位的温度，由此能够以不接触的方式高精度地确定干燥处理中的涂敷液的温度。另外，基于测量出的温度来控制在测量温度的部位的上游侧进行的加热处理的强度，由此能够更加良好地进行干燥处理。
[0031 ]根据第11技术方案的干燥方法，用辐射温度计测量基材上的辐射率不变的部位的温度，由此能够以不接触的方式高精度地确定干燥处理中的涂敷液的温度。另外，基于测量出的温度来控制在测量温度的部位的上游侧进行的加热处理的强度，由此能够更加良好地进行干燥处理。
[0032]根据第12技术方案的涂敷膜形成方法，用辐射温度计测量基材上的辐射率不变的部位的温度，由此能够以不接触的方式高精度地确定干燥处理中的涂敷液的温度。另外，基于测量出的温度来控制在测量温度的部位的上游侧进行的加热处理的强度，由此能够更加良好地进行干燥处理。
【附图说明】
[0033]图1是示出具有实施方式的干燥装置的涂敷膜形成系统的概略结构图。
[0034]图2是实施方式的干燥装置的概略侧视图。
[0035]图3是示出实施方式的控制部与涂敷膜形成系统的其他结构的连接关系的框图。
[0036]图4是示出搬运至实施方式的干燥装置的基材的另一侧主面的概略俯视图。
[0037]图5是示出搬运至实施方式的干燥装置的基材的一侧主面的概略俯视图。
[0038]其中，附图标记说明如下:
[0039]I涂敷膜形成系统
[0040]1A、1B 涂敷部[0041 ]3A、3B干燥装置
[0042]31干燥处理部
[0043]32机壳部
[0044]321 进入口
[0045]323 退出口
[0046]325连接部
[0047]33支撑辊
[0048]35涂敷面侧加热部
[0049]37背面侧加热部
[0050]39辐射温度计[0051 ]41涂敷液
[0052]43涂敷膜
[0053]5 基材
[0054]51 一侧主面
[0055]53另一侧主面
[0056]511、513、531辐射率不变部位
[0057]60搬运机构
[0058]61输送辊(第一辊)
[0059]62卷收辊(第二辊)
[0060]7控制部
[0061]71 CPU
[0062]711加热控制部
[0063]78通知部
【具体实施方式】
[0064]以下，一边参照附图，一边针对本发明的实施方式进行说明。此外，本实施方式中记载的结构要素只不过是例示性的，并不是要将本发明的保护范围仅限定于此。另外，在附图中，为了容易理解，有时根据需要而对各部分的尺寸或者数量以夸张或者简化的方式进行图示。
[0065]<1.实施方式>
[0066]图1是示出具有实施方式的干燥装置3A、3B的涂敷膜形成系统I的概略结构图。
[0067]该涂敷膜形成系统I一边以辊至辊(rollto roll)方式连续搬运作为例如长状的金属箔的基材5，一边在该基材5的两个面上涂敷含有作为电极材料的活性物质的浆状涂敷液。然后，进行该涂敷液的干燥处理，由此制造锂离子二次电池的电极。
[0068]涂敷膜形成系统I具有涂敷部10A、10B、干燥装置3A、3B、搬运机构60以及控制部7。控制部7控制系统整体。
[0069]搬运机构60具有输送辊61(第一辊)、卷收辊62(第二辊)以及多个辅助辊63。长的基材5—边从输送辊61送出并被多个辅助辊63引导，一边被卷收辊62卷收。多个辅助辊63配置于被连续搬运的基材5的搬运路径上的适当位置。长的基材5以辊至辊(roll to roll)方式被依次连续搬运至涂敷部10A、干燥装置3A、涂敷部1B和干燥装置3B。在以下的说明中，将利用搬运机构60搬运基材5的方向(用箭头DRl示出的方向)称为“搬运方向”。此外，搬运方向并不仅限定于固定的一个方向。在图1所示的例子中，利用多个辅助辊63来适当变更基材5的搬运方向。针对辅助辊63的个数以及配置位置，不仅限定于图1所示的情况，能够根据需要而适当地增减。在搬运方向上连续搬运基材5的工序是在基材5上形成涂敷膜43的涂敷膜形成方法的搬运工序的一个例子。
[0070]涂敷部10A、10B对由搬运机构60搬运的基材5的正反表面涂敷浆状的涂敷液。涂敷部1A具有向基材5的正反两个主面中的一侧主面51喷出涂敷液的喷嘴11A，涂敷部1B具有向另一侧主面53喷出涂敷液的喷嘴11B。各喷嘴11A、11B是具有沿着基材5的宽度方向(与基材5的表面平行的方向，与上述搬运方向正交的方向)延伸的狭缝状的喷出口的狭缝喷嘴。[0071 ]利用省略图示的输液机构向喷嘴11A、IIB输送规定的涂敷液。喷嘴IIA、IIB所喷出的涂敷液是相同的，但是也可以是不同种类的。
[0072]喷嘴IlAUlB具有用于规定与狭缝状的喷出口连接的流路的垫圈以及歧管等。另夕卜，在喷嘴11A、11B上还附设有用于调整各自的位置以及姿势的未图示的机构。从输液机构供给至各喷嘴11A、IIB的涂敷液从狭缝状的喷出口喷出到基材5的表面。
[0073]利用涂敷部1A、1B将涂敷液涂敷于基材5的主面的工序是涂敷膜形成方法中的涂敷工序的一个例子。
[0074]干燥装置3A、3B对由搬运机构60向规定的搬运方向连续地搬运的基材5进行干燥处理。
[0075]干燥装置3A设于涂敷部1A的下游侧。干燥装置3A使由涂敷部1A涂敷于基材5的一侧主面51的浆状的涂敷液41干燥。由此，在该一侧主面51形成涂敷膜43。干燥装置3B设于涂敷部1B的下游侧。干燥装置3B使由涂敷部1B涂敷于基材5的另一侧主面53的浆状的涂敷液41干燥。由此，在另一侧主面53形成涂敷膜43。此外，由于干燥装置3A、3B的结构是大致相同的，所以，以下主要针对干燥装置3A的结构进行说明。
[0076]图2是实施方式的干燥装置3A的概略侧视图。干燥装置3A具有多个干燥处理部31。在本例中，干燥装置3A由3个干燥处理部31构成，但是也可以由单一的干燥处理部构成，还可以由2个或者4个以上的干燥处理部构成。在以下的说明中，在区分3个干燥处理部31的情况下，从搬运方向上游侧依次设置为干燥处理部3 Ia、3 Ib、31 c。
[0077]如图2所示，各干燥处理部31具有机壳部32、支撑辊33、涂敷面侧加热部35、背面侧加热部37以及辐射温度计39。在图2中通过剖视图来图示各机壳部32。
[0078]机壳部32是在内部形成有容置基材5的空间的构件，形成有用于使基材5进入的进入口 321以及用于使基材5从内部退出的退出口 323。在各机壳部32的内部附设有支撑辊33、涂敷面侧加热部35、背面侧加热部37以及辐射温度计39。在各干燥处理部31中，在由机壳部32阻挡外部气体的状态下，利用涂敷面侧加热部35以及背面侧加热部37来加热浆状的涂敷液41。因此，能够高效率地进行干燥处理。
[0079]相邻的两个机壳部32、32的退出口 323以及进入口321由连接部325连接。在本例中，3个机壳部32相互连接，由此形成有容置基材5的一个容置空间。但是，连接部325能够省略，各机壳部32也可以是彼此分离的。
[0080]支撑辊33沿着基材5的宽度方向延伸，其外周表面与基材5接触，由此来支撑该基材5。干燥装置3A的各支撑辊33与未涂敷有浆状的涂敷液的一侧的主面(就干燥装置3A而言，是另一侧主面53)接触。
[0081]在各机壳部32的内部各自配置有一个支撑辊33。各支撑辊33配置于不同的高度。更详细地，中央的干燥处理部31b的支撑辊33配置于比其他的两个支撑辊33高的位置。因此，如图2所示，在干燥装置3A中，以将涂敷有涂敷液的主面(就干燥装置3A而言，是一侧主面51)弯曲成凸状(拱状)的方式搬运基材5。
[0082]如以上所述，以凸状搬运基材5，由此能够不改变直线距离，而延长基材5的搬运距离。因此，干燥装置3A能够确保更长的干燥时间。
[0083]此外，在本例中，如图1所示，干燥处理部31a的支撑辊33配置于比紧挨该干燥处理部31a的进入口 321的上游侧的辅助辊63更高的位置。另外，干燥处理部31c的支撑辊33配置于比紧挨该干燥处理部31c的退出口 323的下游侧的辅助辊63更高的位置。因此，各支撑辊33与基材5以成夹角Θ的方式接触。此外，如图2所示，夹角Θ是指，各支撑辊33的与基材5接触的接触面绕旋转轴的角度。
[0084]<加热部>
[0085]涂敷面侧加热部35由多个热风供给部构成，该多个热风供给部向涂敷有涂敷液41的一侧的主面(就干燥装置3A而言，是一侧主面51)供给热风，由此加热涂敷液41。另外，背面侧加热部37由多个热风供给部构成，该多个热风供给部向涂敷有涂敷液41的一侧的主面的相反侧的主面(就干燥装置3A而言，是另一侧主面53)供给热风来加热基材5，由此间接地加热涂敷液41。
[0086]此外，涂敷面侧加热部35以及背面侧加热部37也可以进行红外加热、感应加热或者蒸汽加热，来代替供给热风。
[0087]在以下的说明中，在不区分涂敷面侧加热部35以及背面侧加热部37的情况下，仅称为“加热部”。利用加热部对涂敷液41进行加热处理的工序是涂敷膜形成方法中的加热工序的一个例子。
[0088]此处，假设涂敷液41是锂离子电池负极用材料，并使用PVDF(聚偏氟乙烯)作为该涂敷液41的粘合剂树脂的情况。在这种情况下，基材5上的涂敷液41的温度超过作为PVDF的再熔化温度的135度，是造成偏析等的原因，这是不期望发生的。因此，为了使浆状的涂敷液41处于不超过临界温度的规定的温度，优选控制各加热部来加热涂敷液41。以下，将不超过该临界温度的规定的温度称为目标温度。
[0089]干燥处理部31a是使基材5上的浆状的涂敷液41升温的区域。因此，干燥处理部31a的加热部也可以供给温度超过上述目标温度的热风。例如，在将含有PVDF的涂敷液41涂敷于基材5的情况下，涂敷面侧加热部35可以向基材5上的涂敷液41供给135度以上(例如200度)的热风。由此，能够使基材5上的涂敷液41快速地接近目标温度。针对背面侧加热部37，同样地也可以供给温度超过临界温度的热风。
[0090]另外，各干燥处理部31b、31c的加热部向基材5的涂敷液41供给温度比干燥处理部31a中加热部所供给的热风的温度更低的热风。例如，各干燥处理部31b、31c的涂敷面侧加热部35可以供给温度与上述目标温度相同的热风。此外，在干燥处理部31a中，在无法使涂敷液41的温度充分地升高到目标温度的情况下，例如，在干燥处理部31b中也可以供给超过上述目标温度的热风。针对各干燥处理部31b、31c的背面侧加热部37也是同样的。
[0091]辐射温度计39由检测红外线的红外辐射温度计构成。辐射温度计39在搬运方向上的加热部的下游侧的位置，以不接触的方式测量基材5的特定部位的温度。更详细地，辐射温度计39测量通过加热部的加热处理而辐射率未发生变动的部位(辐射率不变部位)的温度。针对该辐射率不变部位的详细情况，在后文描述。用辐射温度计39测量辐射率不变部位的温度的工序是涂敷膜形成方法中的温度测量工序的一个例子。
[0092]辐射温度计39在加热部的位置(更详细地，基材5上的被从涂敷面侧加热部35以及背面侧加热部37供给热风的区域)与支撑辊33支撑基材5的位置之间的位置，测量基材5的辐射率不变部位的温度。因此，辐射温度计39能够在涂敷液41的温度因支撑辊33而变化之前测量温度。因此，能够以更高的精度确定由加热部加热的涂敷液41的温度。
[0093]图3是示出实施方式的控制部7与涂敷膜形成系统I的其他的结构的连接关系的框图。控制部7构成为例如CPU71、R0M72、RAM73以及存储装置74经由总线75相互连接的一般计算机。R0M72保存有基本程序等。RAM73提供CPU71进行规定的处理而使用的工作区域。
[0094]存储装置74由闪存器或者硬盘等非易失性存储器构成。在存储装置74中安装有程序PGl ο CPU71按照该程序PGl中描述的顺序动作，由此该CPU71发挥例如加热控制部711的功會K。
[0095]程序PGl通常预先保存于存储装置74等的存储器中来使用，但是也可以以记录于⑶-ROM或者DVD-R0M、外部闪存器等记录介质中的形式(程序产品)来提供(或者，通过网络从外部服务器下载等来提供)，并以能够追加或者更好的方式保存于存储装置74等存储器中。此外，在控制部7中实现的功能模块也可以是由专用逻辑电路等以硬件的方式实现的。
[0096]另外，操作输入部76、显示部77经由总线75与控制部7连接。操作输入部76例如是由键盘以及鼠标构成的输入设备，接受来自操作者的各种的操作(输入命令或者各种数据等操作)。此外，操作输入部76可以由各种开关、触摸面板等构成。显示部77是由显示器或者灯等构成的显示装置，在CPU71的控制下显示各种信息。
[0097]另外，设于干燥装置3A、3B中的各涂敷面侧加热部35、各背面侧加热部37以及各辐射温度计39经由总线75与控制部7连接。
[0098]各辐射温度计39向控制部7发送表示测量出的温度的温度信息。于是，控制部7的加热控制部711基于该温度信息，控制位于对应的辐射温度计39的上游侧的加热部(涂敷面侧加热部35以及背面侧加热部37)进行的加热处理的强度。例如，加热控制部711基于由干燥处理部31a的辐射温度计39测量出的温度，控制干燥处理部31a的加热部进行的加热处理的强度。同样地，加热控制部711基于由干燥处理部3 Ib、31 c的辐射温度计39测量出的温度，分别控制干燥处理部31b、31 c的加热部所进行的加热处理的强度。此外，加热控制部711也可以基于由干燥处理部31b的辐射温度计39测量出的温度，既控制干燥处理部31b的加热部，还控制上游侧的干燥处理部31a的加热部。
[0099]如此，在各干燥装置3A、3B中设有3组加热部以及辐射温度计39。设置多组加热部以及辐射温度计39，基于各辐射温度计39的测量结果来控制各加热部，由此能够利用各干燥处理部31进行适当的加热处理。
[0100]此外，控制加热处理的强度是指，基于辐射温度计39的测量结果来增减加热部赋予加热对象的热量。例如，就涂敷面侧加热部35而言，包括使供给至涂敷液41的热风的温度升降或者使供给的热风的风量增减。
[0101]假定，在由特定的辐射温度计39测量出的温度低于规定的目标温度的情况下，加热控制部711使搬运方向上的该特定的辐射温度计39的上游侧的加热部进行的加热处理的强度增强。另外，在由特定的辐射温度计39测量出的温度高于规定的目标温度的情况下，加热控制部711使搬运方向上的该特定的辐射温度计39的上游侧的加热部进行的加热处理的强度减弱。通过这样的控制，能够适当地控制在各部分的加热处理的强度。此外，作为该控制基准的目标温度，可以是每个辐射温度计39彼此不同，或者，也可以是彼此一致的。
[0102]另外，加热控制部711也可以仅控制加热部中的涂敷面侧加热部35，或者仅控制背面侧加热部37。进一步地，加热控制部711还可以是仅对构成涂敷面侧加热部35或者背面侧加热部37的多个热风供给部中的一部分进行控制。
[0103]如以上所述，控制部7的加热控制部711基于由辐射温度计39测量出的温度来控制加热部进行的加热处理的强度的工序是涂敷膜形成方法中的控制工序的一个例子。
[0104]通知部78经由总线75与控制部7连接。通知部78由扬声器、灯或者显示器等构成，在由各辐射温度计39测量出的基材5的温度超过规定的基准温度的情况下，向外部通知该警告。该规定的基准温度是指，例如超过目标温度的温度或者超过临界温度的温度。这样，设置通知部78，由此当涂敷液41达到异常温度时，通过将该异常时态通知操作者，能够迅速应对该异常事态。此外，也可以使显示部77发挥通知部的功能。
[0105]<关于温度测量部位>
[0106]以下，针对各辐射温度计39测量温度的基材5上的温度测量部位进行说明。
[0107]首先，针对在干燥装置3A中的温度测量部位进行说明。在本例中，如图1以及图2所示，干燥装置3A中附设的各辐射温度计39测量基材5的另一侧主面53的表面温度。
[0108]图4是示出在实施方式的干燥装置3A中搬运的基材5的另一侧主面53的概略俯视图。在经过干燥装置3A的基材5的另一侧主面53的相反侧的一侧主面51上，涂敷有浆状的涂敷液41。在图示的例子中，在一侧主面51中的除了宽度方向上的两端部以外的内侧区域，涂敷有涂敷液41。另一方面，基材5的另一侧主面53与其相反侧的一侧主面51不同，是未涂敷有涂敷液41的非涂敷部位。
[0109]通过涂敷面侧加热部35或者背面侧加热部37的加热处理，浆状的涂敷液41的溶剂蒸发。因此，涂敷液41的表面辐射率可能会产生很大的变动。与此相对，由于另一侧主面53是非涂敷部位，所以难以因加热处理导致辐射率变动。因加热处理导致的非涂敷部位的辐射率的变动至少小于因加热处理导致的涂敷液41的表面辐射率的变动。另外，由于基材5是金属箔等比较薄的构件，所以在干燥处理后能够将另一侧主面53的表面温度视为涂敷液41的温度。
[0110]根据以上的观点，将该另一侧主面53的特定部位作为辐射率不变部位531，用辐射温度计39测量该辐射率不变部位531的温度。通过这种方式，能够以不接触的方式高精度地确定基材5的一侧主面51上的涂敷液41的温度。此外，辐射率不变部位531的辐射率(S卩，基材5本身的辐射率)能够通过例如用热电偶实际测量该部位的温度，或者根据基材5的材质等推断来确定。
[0111]接着，针对在干燥装置3B中的温度测量部位进行说明。如图1所示，干燥装置3B中附设的各辐射温度计39测量基材5的一侧主面51的表面温度。
[0112]图5是示出在实施方式的干燥装置3B中搬运的基材5的一侧主面51的概略俯视图。干燥装置3B使涂敷于基材5的另一侧主面53的涂敷液41干燥，但是在经过干燥装置3B的基材5的一侧主面51上形成有已经由干燥装置3A进行了干燥处理后的涂敷液41的薄膜(涂敷膜 43)。
[0113]在这样的基材5的一侧主面51上未形成涂敷膜43的两端部是未涂敷有涂敷液41的非涂敷部位，是辐射率几乎不发生变动的部位。因此，将基材5的两端部中的一个部位作为辐射率不变部位511，利用各辐射温度计39测量该辐射率不变部位511的温度。通过这种方式，能够以不接触的方式高精度地确定涂敷于另一侧主面53的涂敷液41的温度。
[0114]另外，形成有涂敷膜43的涂敷膜形成部位是涂敷液41的溶剂已经蒸发了的状态的固状部分。因此，该涂敷膜形成部位变成辐射率难以发生变动的部位。因此，也可以将该形成有涂敷膜43的部位作为辐射率不变部位513，利用各辐射温度计39测量该辐射率不变部位513的温度。此外，涂敷膜43的辐射率不变部位513的辐射率能够通过例如用热电偶实际测量该部位，或者根据涂敷液41的成分等推断来确定。测量辐射率不变部位513的温度，由此能够以不接触的方式高精度地确定涂敷于另一侧主面53的涂敷液41的温度。
[0115]<2.变形例 >
[0116]以上，针对实施方式进行了说明，但是本发明并不限定于如上述的实施方式，而是能够进行各种各样的变形。
[0117]例如，在上述实施方式中，在各干燥处理部31中设有涂敷面侧加热部35以及背面侧加热部37作为加热部。但是也可以仅设置其中的一者。
[0118]另外，在上述实施方式的各干燥装置3A、3B中，改变配置各支撑辊33的高度，由此以将基材5弯曲成凸状的方式搬运该基材5。但是，也可以将各支撑辊33配置于相同的高度，由此以笔直的状态搬运基材5。
[0119]另外，加热控制部711也可以基于由各辐射温度计39测量出的温度，既控制搬运方向上的上游侧的加热部，又控制搬运方向上的下游侧的加热部。
[0120]另外，在上述实施方式的涂敷膜形成系统I中在基材5的两主面上形成有涂敷膜43。但是，本发明对仅在单侧主面形成涂敷膜43的涂敷膜形成系统也是有效的。
[0121]另外，本发明的应用范围不仅限定于面向锂离子电池的电极制造，也能够应用于面向其他电池的电极制造。
[0122]另外，在上述各实施方式以及各变形例中说明了的各结构只要不相互矛盾，就能够适当组合或者省略。
[0123]虽然详细地说明了本发明，但是上述的说明在全部的方面都是例示性的，本发明并不限定于此。未举例示出的无数的变形例应理解为不脱离本发明的范围就可以想到的。
【主权项】
1.一种干燥装置，使涂敷于被搬运机构连续搬运的基材的两个主面中的至少一侧主面上的浆状的涂敷液干燥，该搬运机构一边从第一辊送出所述基材，一边用第二辊卷收所述基材，该干燥装置具有: 加热部，对涂敷于所述基材上的涂敷液进行加热处理，辐射温度计，在搬运方向上的所述加热部的下游侧的位置，对所述基材上的辐射率不会因所述加热处理变动的辐射率不变部位的温度进行测量，以及控制部，基于所述辐射温度计测量出的温度，控制所述加热处理的强度。2.如权利要求1所述的干燥装置，其中，所述辐射温度计在所述基材上的未涂敷有所述涂敷液的非涂敷部位或者形成有已干燥的所述涂敷液的涂敷膜的涂敷膜形成部位测量温度。3.如权利要求1或者2所述的干燥装置，其中，该干燥装置还具有机壳部，该机壳部形成有用于使所述基材进入内部的进入口以及用于使所述基材从内部退出的退出口，所述加热部以及所述辐射温度计容置于所述机壳部内。4.如权利要求1或者2所述的干燥装置，其中，在所述辐射温度计测量出的所述辐射率不变部位的温度比目标温度低的情况下，所述控制部使所述加热部进行的所述加热处理的强度增强，在所述辐射率不变部位的温度比所述目标温度高的情况下，所述控制部使所述加热部进行的所述加热处理的强度减弱。5.如权利要求4所述的干燥装置，其中，所述加热部具有热风供给部，该热风供给部向所述基材吹送温度比所述目标温度高的热风，来加热所述涂敷液。6.如权利要求1或者2所述的干燥装置，其中，所述加热部以及所述辐射温度计沿着所述基材的搬运路径至少排列有一组以上。7.如权利要求1或者2所述的干燥装置，其中，该干燥装置还具有支撑辊，该支撑辊配置于所述加热部的下游侧，支撑所述基材的另一侧主面，所述辐射温度计在所述加热部与所述支撑辊之间的位置，测量所述辐射率不变部位的温度。8.如权利要求1或者2所述的干燥装置，其中，该干燥装置还具有多个排列于不同的高度的支撑辊，所述多个支撑辊以使所述基材呈向所述一侧主面侧凸出的凸状的方式支撑该所述基材。9.如权利要求1或者2所述的干燥装置，其中，该干燥装置还具有通知部，在由所述辐射温度计测量出的所述辐射率不变部位的温度超过规定的基准温度的情况下，该通知部向外部发出通知。10.一种涂敷膜形成系统，在基材上形成涂敷膜，该涂敷膜形成系统具有: 搬运机构，用第二辊卷收从第一辊送出的基材，来连续搬运所述基材，涂敷部，向被所述搬运机构搬运的基材的两个主面中的至少一侧主面涂敷浆状的涂敷液，以及权利要求1或者2所述的干燥装置。11.一种干燥方法，该干燥方法使涂敷于通过一边从第一辊送出基材一边用第二辊卷收而被连续搬运的所述基材的两个主面中的至少一侧主面上的浆状的涂敷液干燥，包括: 加热工序，对涂敷于所述基材上的涂敷液进行加热处理，温度测量工序，用辐射温度计对在所述加热工序中已被加热的所述基材中的辐射率不会因所述加热处理变动的辐射率不变部位的温度进行测量，以及控制工序，基于所述辐射温度计测量出的温度，控制所述加热处理的强度。12.一种涂敷膜形成方法，在基材上形成涂敷膜，包括: 搬运工序，用第二辊卷收从第一辊送出的基材，来连续搬运基材，涂敷工序，在所述搬运工序中连续搬运的基材的两个主面中的至少一侧主面上涂敷浆状的涂敷液，加热工序，对涂敷于所述基材上的涂敷液进行加热处理，温度测量工序，用辐射温度计对在所述加热工序中已被加热的所述基材中的辐射率不会因所述加热处理变动的辐射率不变部位的温度进行测量，以及控制工序，基于所述辐射温度计测量出的温度，控制所述加热处理的强度。
【文档编号】B05D3/04GK106000822SQ201610183321
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年3月28日
【发明人】山越润, 山越润一, 陆井秀晃
【申请人】株式会社思可林集团

文档序号 : 【 10635211 】

技术研发人员：山越润一,陆井秀晃
技术所有人：株式会社思可林集团

备注：该技术已申请专利，仅供学习研究，如用于商业用途，请联系技术所有人。
声明 ：此信息收集于网络，如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们，我们会在第一时间删除

山越润一丨陆井秀晃丨株式会社思可林集团

一种风速可调的热风循环选粉装置的制造方法山区用的茶籽干燥装置的制造方法