一种高雾度复合透明导电电极的制备方法
[0064](五)磁控溅射沉积金属氧化物薄膜
[0065]将(四)中得到的样品沉积金属氧化物薄膜，本实施例中沉积的金属氧化物薄膜为AZO，厚度约为lOOOnm，调节磁控溅射功率为200W，磁控腔室内温度约为200°C，样品表面温度约为200 °C。
[0066](六)刻蚀液的制备及金属氧化物的刻蚀
[0067]刻蚀液的配方为冰醋酸:浓盐酸:去离子水的体积比为0.5:1:200o将(五)中的样品浸于刻蚀液中30s后迅速取出，金属网格内的AZ0刻蚀30S后的SEM图如图3所示，经去离子水彻底冲洗、压缩空气枪吹干后即制得高雾度复合透明导电电极，如图4中所示，保存起来留作太阳能电池的制备。
[0068]本实施例基于金属银网格和表面织构金属氧化物制备的复合透明导电电极具有良好的光电性能以及较高的雾度，如图5和图6中所示，从图5中可以看出，样品1(即本实施例制成的复合透明导电电极)复合电极的电阻为10.40Q/sq，透光性为78.95%，雾度为45.95%。通过金属氧化物的辅助，电极的电阻有了较大的下降，样品1的电阻从最初的大约20.06Q/sq下降到大约10.40 Ω/Sq ;电极的雾度有了很大的提高，样品1的雾度从最初的大约4.29 %，变化至大约45.95 %。
[0069]实施例2
[0070]本实施例提供了一种基于金属网格和表面织构金属氧化物制备复合透明导电电极的制备方法如图1所示，其中(1)表示龟裂模板液的沉积，(2)表示龟裂模板的形成，(3)表示金属薄膜的沉积，(4)表示龟裂模板的去除，也即金属网格的形成，(5)表示金属氧化物的沉积，(6)表示金属氧化物的刻蚀，也即金属网格和表面织构金属氧化物复合透明导电电极的形成，其中表示金属网络线，2表示网孔，3表示表面织构金属氧化物。
[0071]各步骤的详细过程如下:
[0072](一 )龟裂液的制备和龟裂薄膜的沉积
[0073]以鸡蛋的蛋清液为原料，向蛋清液中加入去离子水(其中去离子水和蛋清液的体积比为0:1)，超声30min，离心机以2000r/min的速度离心lOmin，去除下层杂质，得到透明淡黄色龟裂液。然后采用旋涂法在PI上沉积龟裂薄膜，具体是:在衬底上滴加龟裂液，采用旋涂机以300r/min的速度持续10s，再以800r/min的转速持续旋涂60s获得厚度约为8 μ m
的龟裂薄膜。
[0074]( 二 )龟裂模板的形成
[0075]将(一)中的样品平放在加热台上(加热台表面温度设为30 °C )，相对湿度为20%，加热30min，即可获得龟裂模板。
[0076](三)磁控溅射沉积金属薄膜
[0077]本实施例沉积的是金属薄膜厚度约为150nm，采用的金属为银，除银之外的其它金属比如铜、铝、金、银镍合金等也是可行的，调节磁控溅射功率为150W，磁控腔室内温度约为20°C，样品表面温度约为50°C。
[0078](四)去除龟裂模板，形成金属网格
[0079]龟裂模板采用水流冲洗的方法去除，具体是:将沉积金属薄膜的样品冷却至室温，使用水流冲洗的方法去除模板，根据去除难易程度适当调节水流速度，获得的金属网格透明导电薄膜的网孔大小约为50 μπι，金属线宽度约为3 μπι。
[0080](五)磁控溅射沉积金属氧化物薄膜
[0081]将(四)中得到的样品沉积金属氧化物薄膜，本实施例中沉积的金属氧化物薄膜为ΑΖΟ，厚度约为600nm，调节磁控溅射功率为150W，磁控腔室内温度约为100°C，样品表面温度约为100°C。
[0082](六)刻蚀液的制备及金属氧化物的刻蚀
[0083]刻蚀液的配方为冰醋酸:浓盐酸:去离子水=1:1:200 (体积比)。将(五)中的样品浸于刻蚀液中20s后迅速取出，经去离子水彻底冲洗、压缩空气枪吹干后保存起来留作太阳能电池的制备。
[0084]本实施例基于金属银网格和表面织构金属氧化物制备的复合透明导电电极具有良好的光电性能以及较高的雾度。
[0085]实施例3
[0086]本实施例提供了一种基于金属网格和表面织构金属氧化物制备复合透明导电电极的制备方法如图1所示，其中(1)表示龟裂模板液的沉积，(2)表示龟裂模板的形成，(3)表示金属薄膜的沉积，(4)表示龟裂模板的去除，也即金属网格的形成，(5)表示金属氧化物的沉积，(6)表示金属氧化物的刻蚀，也即金属网格和表面织构金属氧化物复合透明导电电极的形成，其中表示金属网络线，2表示网孔，3表示表面织构金属氧化物。
[0087]各步骤的详细过程如下:
[0088](一 )龟裂液的制备和龟裂薄膜的沉积
[0089]以蛋清液为原料，向蛋清液中加入去离子水(其中去离子水和蛋清液的体积比为2:1)，超声5min，离心机以4000r/min的速度离心3min，去除下层杂质，得到透明淡黄色龟裂液。然后采用旋涂法在玻璃衬底上沉积龟裂薄膜，具体是:在衬底上滴加龟裂液，采用旋涂机以200r/min的速度持续20s，再以1000r/min的转速持续旋涂10s获得厚度约为5 μπι
的龟裂薄膜。
[0090]( 二 )龟裂模板的形成
[0091]将(一)中的样品平放在加热台上(加热台表面温度设为60°C)，相对湿度为30%，加热50min，即可获得龟裂模板。
[0092](三)磁控溅射沉积金属薄膜
[0093]本实施例沉积的是金属薄膜厚度约为250nm，采用的金属为银，除银之外的其它金属比如铜、铝、金、银镍合金等也是可行的，调节磁控溅射功率为100W，磁控腔室内温度约为25°C，样品表面温度约为45°C。
[0094](四)去除龟裂模板，形成金属网格
[0095]龟裂模板采用水流冲洗的方法去除，具体是:将沉积金属薄膜的样品冷却至室温，使用水流冲洗的方法去除模板，根据去除难易程度适当调节水流速度，获得的金属网格透明导电薄膜的网孔大小约为150 μπι，金属线宽度约为10 μπι。
[0096](五)磁控溅射沉积金属氧化物薄膜
[0097]将(四)中得到的样品沉积金属氧化物薄膜，本实施例中沉积的金属氧化物薄膜为ΑΖ0，厚度约为400nm，调节磁控溅射功率为100W，磁控腔室内温度约为20°C，样品表面温度约为30°C。
[0098](六)刻蚀液的制备及金属氧化物的刻蚀
[0099]刻蚀液的配方为冰醋酸:浓盐酸:去离子水=1:2:200 (体积比)。将(五)中的样品浸于刻蚀液中10s后迅速取出，经去离子水彻底冲洗、压缩空气枪吹干后保存起来留作太阳能电池的制备。
[0100]因浓盐酸极易挥发，配制过程中要尽量减少浓盐酸与空气的接触，从而减少其挥发，使配方更精确。
[0101]本实施例基于金属银网格和表面织构金属氧化物制备的复合透明导电电极具有良好的光电性能以及较高的雾度。
[0102]实施例4
[0103]本实施例提供了一种基于金属网格和表面织构金属氧化物制备复合透明导电电极的制备方法如图1所示，其
文档序号 :
【 9599267 】
技术研发人员：高进伟,李若朋,张文辉
技术所有人：华南师范大学
备 注：该技术已申请专利，仅供学习研究，如用于商业用途，请联系技术所有人。
声 明 ：此信息收集于网络，如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们，我们会在第一时间删除
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