首页  专利技术  电子电路装置的制造及其应用技术

一种自回流A2O水处理装置的制作方法

2025-09-24 15:20:08 349次浏览

技术特征:

1.一种自回流A2O水处理装置,包括从左向右依次相隔设置的厌氧缺氧混合反应池(1)、好氧反应池(2)以及沉淀池(3);所述厌氧缺氧混合反应池(1)与好氧反应池(2)之间相邻的侧壁上设置过水孔,所述好氧反应池(2)的底部与所述沉淀池(3)的底部相连通;所述厌氧缺氧混合反应池(1)靠近底部的位置上设置有进水管,其特征在于,所述好氧反应池(2)内的侧壁上设置有集水槽(21),所述集水槽(21)位于好氧反应池内的液面上方;所述好氧反应池(2)内还设置有用于对污水进行搅拌并将污水提升至液面上方的提升搅拌装置(4),所述提升搅拌装置(4)上具有用于将提升的污水排出的出水口,该出水口出水时朝向所述集水槽(21)上方的槽口;所述集水槽(21)通过管道连接至所述厌氧缺氧混合反应池(1)的进水管。

2.如权利要求1所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述提升搅拌装置(4)包括整体呈圆柱形的搅拌架(41),所述搅拌架(41)上具有同轴设置的转轴,所述转轴上连接设置有用于驱动所述搅拌架(41)旋转的驱动电机(42);所述搅拌架(41)的转轴沿垂直于所述集水槽(21)所在侧壁的方向水平架设在所述好氧反应池(2)内,其下半部分位于所述好氧反应池(2)内的液面下;所述搅拌架(41)的外圆面上具有若干沿周向均匀布置的取水筒(43),所述取水筒(43)朝向所述集水槽(21)的一端具有开口,且该开口端顺沿所述搅拌架(41)的旋转方向倾斜设置,使取水筒(43)随搅拌架(41)旋转出液面时该开口端斜向上装满污水,并在经过搅拌架(41)的最高点后继续向下旋转的过程中,该开口端斜向下将水倒进所述集水槽(21)中。

3.如权利要求2所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述搅拌架(41)内还设置有若干个沿圆周方向均匀布置的填料笼(44);所述填料笼(44)内充填有填料,所述填料的表面能够附着生长用于处理污水的微生物。

4.如权利要求3所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述填料采用ZH30型颗粒活性碳填料、椰壳活性碳填料、悬浮球填料、鲍尔环填料、海尔环填料、多面空心球填料、花环填料、改性生物悬浮填料中的一种或几种混合而成。

5.如权利要求2所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述好氧反应池(2)宽度方向上的两个侧壁上各设置有一个所述集水槽(21),所述取水筒(43)在所述搅拌架(41)的轴线方向上对称设置有两排,且每一排所述取水筒(43)的开口端均朝向邻近的所述集水槽(21)。

6.如权利要求2所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述集水槽(21)位于所述搅拌架(41)的轴线上方且靠近该轴线的位置,所述集水槽(21)紧贴所在的侧壁设置,且该侧壁高于所述搅拌架(41)的最高点。

7.如权利要求2所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述提升搅拌装置(4)沿所述集水槽(21)的长度方向设置有多个,且相邻两个所述提升搅拌装置(4)的转轴通过链条相连。

8.如权利要求1所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述厌氧缺氧混合反应池(1)的底部朝向所述好氧反应池(2)方向延伸形成进水区(11),使所述好氧反应池(2)的底面高于所述厌氧缺氧混合反应池(1)的底面;所述进水区(11)内沿左右方向等距布置有多个隔板,所述隔板沿前后方向的一端与侧壁相连,另一端与侧壁间隔设置;相邻两个所述隔板分别与前后方向上的两个侧壁相连,使所述进水区(11)内形成连续的S型通道;所述厌氧缺氧混合反应池(1)的进水管位于所述进水区(11)靠近所述沉淀池(3)的一侧。

9.如权利要求1所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述好氧反应池(2)的底面沿朝向所述沉淀池(3)的方向倾斜向下设置,所述沉淀池(3)的底面沿朝向所述好氧反应池(2)的方向倾斜向下设置,在所述好氧反应池(2)的底面与所述沉淀池(3)的底面相交接的最低处设置有排泥管(22)。

10.如权利要求1所述的自回流A2O水处理装置,其特征在于,所述沉淀池(3)的侧壁上设置有出水管(31),所述出水管(31)的高度低于所述好氧反应池(2)内的液面。

文档序号 : 【 11038341 】

技术研发人员:黄健盛,童启邦,廖伟伶,姚源,陈婷婷,吕圣红,宋丹
技术所有人:重庆市环境科学研究院

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
声 明此信息收集于网络,如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们,我们会在第一时间删除
黄健盛童启邦廖伟伶姚源陈婷婷吕圣红宋丹重庆市环境科学研究院
手动撇渣装置的制作方法 一种基于3D打印技术的生态浮岛的制作方法
相关内容